三菱化学推进超高纯胶体二氧化硅产业化

　　中化新网讯 近日，三菱化学宣布推进超高纯胶体二氧化硅的产业化，将在日本北九州市九州工厂新建生产设施，计划2028年10月正式投产。

　　胶体二氧化硅是半导体制造的关键材料，可用于硅片表面抛光药剂，也可充当晶圆互连层化学机械抛光研磨液原料。三菱化学将以超高纯四甲氧基硅烷为原料，采用一体化工艺制备超高纯胶体二氧化硅，可把杂质水平降到极低。三菱化学依托自身成熟技术，能够对粒径、密度等关键指标进行定制调整，适配半导体厂商的实际生产要求。

　　生成式人工智能、数据中心等领域带动半导体行业持续扩张，先进数据处理与通信业务成为三菱化学重点发展方向，本次布局正是为匹配下游市场增长需求。